特許

J-GLOBAL ID：200903055553147284

イオンビームスパッタ装置

発明者： 平山 智士
出願人/特許権者： 日本航空電子工業株式会社
代理人 (1件)： 草野 卓 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-022687
公開番号（公開出願番号）：特開平9-209142
出願日： 1996年02月08日
公開日（公表日）： 1997年08月12日
要約：

【要約】【課題】 基板ホルダーに防護円筒を取り付けたイオンビームスパッタ装置を提供する。【解決手段】 真空チャンバー11と、真空チャンバー11側部に設置したイオンガン12と、真空チャンバー11側壁を介して挿入される回転軸19によりイオンガン12に対向して上方に支持固定されるターゲットホルダ14と、薄膜が形成されるべき基板18が着脱される基板ホルダ13と、真空チャンバー11内を吸引排気する真空ポンプ16とより成るイオンビームスパッタ装置において、基板ホルダ13に取り付けられる防御円筒15を具備し、防御円筒内部は仕切り板31を防護円筒の軸方向に整列せしめると共に直交して組み立てることにより軸方向に延伸する複数の領域に仕切られているイオンビームスパッタ装置。

請求項（抜粋）：

真空チャンバーと、真空チャンバー側部に設置したイオンガンと、真空チャンバー側壁を介して挿入される回転軸によりイオンガンに対向して上方に支持固定されるターゲットホルダーと、薄膜が形成されるべき基板が着脱される基板ホルダーと、真空チャンバー内を吸引排気する真空ポンプとより成るイオンビームスパッタ装置において、基板ホルダーに取付けられる防御円筒を具備し、防御円筒内部は仕切り板を防護円筒の軸方向に整列せしめると共に、直交して組み立てることにより軸方向に延伸する複数の領域に仕切られていることを特徴とするイオンビームスパッタ装置。

IPC (3件)：

C23C 14/46 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/31

FI (3件)：

C23C 14/46 Z ,  H01L 21/203 S ,  H01L 21/31 D

引用特許：

審査官引用 (3件)

• イオンビームスパツタ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-101782   出願人：株式会社ニコン
• 特開平3-170669
  
• 特開昭63-288988