特許
J-GLOBAL ID：200903055618701543
X線マスク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-113476
公開番号（公開出願番号）：特開平5-315229
出願日： 1992年05月06日
公開日（公表日）： 1993年11月26日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 可視光透過率をある程度確保しながら反射防止膜に平坦化、導電性、エッチングストッパなど他の機能を付与する。【構成】 X線透過性基板2の両側に異なる反射防止膜51、53を設たり少なくとも1面に多層の透明薄膜から成る反射防止膜を設け、それぞれの反射防止膜の屈折率nおよびniに対し、膜厚が式(1)、(2)を満足するようにする。
請求項（抜粋）：
X線透過性基板の両側に異なる反射防止膜を設けると共に、それぞれの反射防止膜の屈折率nに対し、膜厚が下式(1)でm値を0あるいは1とした式を概略満足するように構成したことを特徴とするX線マスク。【数1】
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 1/00
, G03F 1/16
