特許
J-GLOBAL ID：200903055661869423
プラズマCVD法による蒸着膜
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
小野 尚純
, 奥貫 佐知子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-045015
公開番号（公開出願番号）：特開2006-233234
出願日： 2005年02月22日
公開日（公表日）： 2006年09月07日
要約：
【課題】 基体に対する密着性が良好であるばかりか、水分、特にアルカリ水溶液に対する耐性にも優れたプラズマCVD法による蒸着膜を提供する。【解決手段】 有機金属化合物と酸化性ガスとを反応ガスとして用いたプラズマCVD法により基体表面に形成した蒸着膜において、前記有機金属化合物に由来する金属元素(M)、酸素(O)及び炭素(C)の3元素基準で、前記蒸着膜は、炭素濃度が5元素%以上の基体側接着層領域と、炭素濃度が5元素%未満の中間層バリアー領域と、炭素濃度が5元素%以上の表面保護層領域とに区画され、表面保護層領域の外面では、炭素(C)濃度が酸素(O)濃度及び金属元素(M)濃度よりも高く、金属元素(M)の酸化度xが1.3以下であり、且つ金属元素(M)の結合エネルギーが、前記中間層バリアー領域での金属元素結合エネルギーの平均値よりも1.0eV以上小さく、中間層バリアー領域では、金属元素(M)の酸化度xが平均して1.8より高く且つ2.4以下であることを特徴とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
有機金属化合物と酸化性ガスとを反応ガスとして用いたプラズマCVD法により基体表面に形成した蒸着膜において、
前記有機金属化合物に由来する金属元素(M)、酸素(O)及び炭素(C)の3元素基準で、前記蒸着膜は、炭素濃度が5元素%以上の基体側接着層領域と、炭素濃度が5元素%未満の中間層バリアー領域と、炭素濃度が5元素%以上の表面保護層領域とに区画され、
前記表面保護層領域は、炭素(C)濃度が酸素(O)濃度及び金属元素(M)濃度よりも高く、且つ該表面保護層領域の表面において、金属元素(M)の酸化度x(xは金属元素に対する酸素元素の元素比で表される)が1.3以下であり且つ金属元素(M)の結合エネルギーが、前記中間層バリアー領域での金属元素結合エネルギーの平均値よりも1.0eV以上小さく、
前記中間層バリアー領域では、金属元素(M)の酸化度xが平均して1.8より高く且つ2.4以下であることを特徴とする蒸着膜。
IPC (4件)：
C23C 16/44
, B65D 23/02
, C23C 16/40
, C23C 16/50
C23C16/44 A
, B65D23/02 Z
, C23C16/40
, C23C16/50
3E062AA09
, 3E062AC02
, 3E062JA01
, 3E062JA07
, 3E062JB24
, 3E062JC01
, 3E062JD01
, 4K030AA06
, 4K030BA44
, 4K030BB12
, 4K030CA07
, 4K030CA11
, 4K030FA01
, 4K030FA12
, 4K030HA11
, 4K030HA15
, 4K030JA09
, 4K030LA01
, 4K030LA11
