特許

J-GLOBAL ID：200903055707040011

真空排気システム

発明者： 杉浦 哲郎 ,  野村 典彦 ,  野路 伸治
出願人/特許権者： 株式会社荏原製作所
代理人 (1件)： 渡邉 勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-088754
公開番号（公開出願番号）：特開平10-266962
出願日： 1997年03月24日
公開日（公表日）： 1998年10月06日
要約：

【要約】【課題】 排ガスに含まれる材料ガスの再利用を図るとともに、排ガス処理装置の負担を軽減させ、しかもPFC等が大気中に放出されてしまうことを防止できるようにする。【解決手段】 気密チャンバ10を排気する排気経路12に2台の真空ポンプ14a,14bが直列に設けられ、この2台の真空ポンプを繋ぐ配管16内に、排ガスの成分をトラップ部18でトラップするトラップ室32aとトラップ部でトラップされた成分を再生する再生室34aとを有するトラップ装置20が設けられ、さらに、再生室で再生された再生ガスを気密チャンバに戻す再生ガス循環経路22が設けられている。

請求項（抜粋）：

気密チャンバを排気する排気経路に2台の真空ポンプが直列に設けられ、この2台の真空ポンプを繋ぐ配管内に、排ガスの成分をトラップ部でトラップするトラップ室と該トラップ部でトラップされた成分を再生する再生室とを有するトラップ装置が設けられ、さらに、前記再生室で再生された再生ガスを前記気密チャンバに戻す再生ガス循環経路が設けられている特徴とする真空排気システム。

IPC (4件)：

F04B 37/16 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/3065

FI (6件)：

F04B 37/16 E ,  F04B 37/16 C ,  F04B 37/16 D ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/02 D ,  H01L 21/302 B

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 半導体熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-069249   出願人：株式会社東芝