特許

J-GLOBAL ID：200903055707229114

基板処理装置

発明者： 大谷 正美 ,  佐々木 忠司
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 小笠原 史朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-343649
公開番号（公開出願番号）：特開平9-186147
出願日： 1995年12月28日
公開日（公表日）： 1997年07月15日
要約：

【要約】【課題】 薬液を有効に利用でき、しかもオペレータの作業負担を軽減できる基板処理装置を提供することである。【解決手段】 薬液収容容器11内には、基板に供給すべき薬液が収納されている。薬液保冷部12は、薬液収容容器11内に収容された薬液を、保存適温状態に保たれるように保冷する。薬液圧送部13は、薬液収容容器11から薬液を薬液導入管14に送り出す。薬液温調部16は、薬液導入管14によって導かれる薬液を使用適温に変換する。使用適温に変換された薬液は、薬液吐出ユニット15に導かれる。薬液吐出ユニット15は、基板に薬液を吐出する。

請求項（抜粋）：

基板の表面に所定の薬液を供給する基板処理装置であって、前記薬液を保存適温で保存する薬液保存手段と、前記薬液に圧力を加え、前記薬液保存手段から薬液を送り出す薬液圧送手段と、途中に薬液を保存適温から使用適温に温度変換する温調手段を有しており、前記薬液圧送手段によって送り出された薬液を導くための薬液流路と、前記薬液流路によって導かれた薬液を、基板の表面に吐出する薬液吐出手段とを備える、基板処理装置。

IPC (7件)：

H01L 21/31 ,  B05C 5/00 ,  G03F 7/16 501 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/316

FI (8件)：

H01L 21/31 A ,  B05C 5/00 Z ,  G03F 7/16 501 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/316 G ,  H01L 21/30 564 Z ,  H01L 21/30 569 A ,  H01L 21/306 J

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平2-184031
  
• 特開平1-130758
  
• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-129925   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社, 株式会社東芝
• 特開昭63-152122