特許
J-GLOBAL ID:200903055729312910
ガス供給時間選択方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
森本 義弘
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-259043
公開番号(公開出願番号):特開2000-091326
出願日: 1998年09月14日
公開日(公表日): 2000年03月31日
要約:
【要約】【課題】 真空容器内の圧力を一定することによりエッチング側壁の荒れや成膜の荒れが殆ど発生しないようにする。【解決手段】 遷移工程実行時に真空容器内の圧力を真空計により測定し、それを次の遷移工程時間にフィードバックして真空容器内の圧力変動が±10%以下になるように遷移工程時間を(b)に示すように延長、あるいは(c)に示すように短縮し、これを繰り返すことによって、最適な遷移工程時間を選択して、真空容器内の圧力を一定にする。
請求項(抜粋):
真空容器内にガスを供給しつつ真空容器内を排気し、真空容器内にプラズマを発生させ、ガス組成、圧力、高周波電力などの制御パラメーターをエッチング中に複数回変化させて真空容器内の電極に載置された被処理物をエッチングするに際し、ガス供給切り換えの際の供給するガスが重なり合う遷移工程時間について、その遷移工程内の真空容器内の圧力を測定し、その圧力変動の結果をフィードバックすることにより、次遷移工程時の真空容器内の圧力が小さくなるように遷移工程時間長を変化させるガス供給時間選択方法。
IPC (5件):
H01L 21/3065
, C23C 16/52
, C23F 4/00
, G05B 13/02
, H01L 21/205
FI (5件):
H01L 21/302 A
, C23C 16/52
, C23F 4/00 A
, G05B 13/02 B
, H01L 21/205
引用特許:
審査官引用 (3件)
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半導体基盤の表面処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-206672
出願人:サーフィステクノロジーシステムズリミテッド
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チャンバーへのガス供給方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-268689
出願人:清原まさ子
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特開平2-216823
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