特許

J-GLOBAL ID：200903055733236110

表面処理装置

発明者： 坂井 和宏
出願人/特許権者： 岩崎電気株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-051431
公開番号（公開出願番号）：特開2000-246200
出願日： 1999年02月26日
公開日（公表日）： 2000年09月12日
要約：

【要約】【課題】 処理室内のオゾン濃度あるいは300nm以下の紫外放射照度を制御することにより、雰囲気湿度の変動の影響を受けずに常に安定した表面処理を行うことができる表面処理装置を提供することを課題とする。【解決手段】 内部に紫外放射光源16を装着してなる処理装置本体1における処理室12に、空気を導入する空気導入部20と、同処理室に酸素を導入する酸素供給部21を設け、また処理室内のオゾン濃度を測定するオゾン濃度計30を配置し、オゾン濃度計の出力により処理室内の酸素供給量を制御し、絶えず処理室内のオゾン濃度が一定になるように構成してある。またオゾン濃度計に代えて紫外線放射照度計40を配置し、同様に処理室内のオゾン濃度が一定になるように構成してある。

請求項（抜粋）：

内部に紫外放射光源を装着してなる処理装置本体と、同紫外放射光源の照射部に配置してなる処理室と、処理室内のオゾン濃度を測定するオゾン濃度計を有する表面処理装置において、前記処理室に空気を導入する空気導入部と、同処理室に酸素を導入する酸素供給部を設け、また同処理室内のオゾン濃度を測定するオゾン濃度計を配置し、オゾン濃度計の出力により処理室内の酸素供給量を制御し、絶えず処理室内のオゾン濃度が一定となるように構成したことを特徴とする表面処理装置。

IPC (4件)：

B08B 7/00 ,  C08J 7/00 304 ,  B01J 19/12 ,  C01B 13/10

FI (4件)：

B08B 7/00 ,  C08J 7/00 304 ,  B01J 19/12 C ,  C01B 13/10 D

Fターム (26件)：

3B116AA02 ,  3B116AA03 ,  3B116AB14 ,  3B116AB42 ,  3B116BC01 ,  3B116CD11 ,  3B116CD42 ,  3B116CD43 ,  4F073AA23 ,  4F073AA25 ,  4F073BA34 ,  4F073CA47 ,  4F073CA62 ,  4F073HA15 ,  4G042CA03 ,  4G042CB26 ,  4G075AA30 ,  4G075AA61 ,  4G075AA65 ,  4G075BA05 ,  4G075CA33 ,  4G075CA51 ,  4G075EB31 ,  4G075EB33 ,  4G075ED11 ,  4G075FB06

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 紫外線処理方法およびそれに用いる装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-139648   出願人：株式会社アドバンスト・ディスプレイ
• オゾン供給装置とオゾン濃度調整方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-355080   出願人：株式会社ブルーメディカルサイエンス