汚染水の有害金属除去システム

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (1件)：千葉博史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-093948
公開番号（公開出願番号）：特開2004-298720
出願日： 2003年03月31日
公開日（公表日）： 2004年10月28日
要約：

【課題】排水等に含まれる有害金属を効果的に除去する処理システムを提供する。【手段】有害金属を含む汚染水について、ヒ素をはじめとする有害金属の濃度を連続的な処理操作によって測定する濃度測定部と、この測定した濃度に応じて処理剤を投入し、有害金属を沈澱化する反応部と、反応後の汚染水を固液分離する濾過部と、固液分離した浄水を一時的に貯留して排水する排水処理部とを有することを特徴とする汚染水の有害金属除去システム。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

有害金属を含む汚染水について、ヒ素をはじめとする有害金属の濃度を連続的な処理操作によって測定する濃度測定部と、この測定した濃度に応じて処理剤を投入し、有害金属を沈澱化する反応部と、反応後の汚染水を固液分離する濾過部と、固液分離した浄水を一時的に貯留して排水する排水処理部とを有することを特徴とする汚染水の有害金属除去システム。

IPC (2件)：

C02F1/62 , G01N33/18

FI (2件)：

C02F1/62 Z , G01N33/18 Z

Fターム (8件)：

4D038AA08 , 4D038AB63 , 4D038AB70 , 4D038BA04 , 4D038BA06 , 4D038BB09 , 4D038BB17 , 4D038BB18

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平1-104392
ヒ素固定剤及びヒ素含有排水の処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-205722 出願人：ユニチカ株式会社
特開昭58-153586

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