特許
J-GLOBAL ID:200903055746853496

集塵装置及びその保守方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 名嶋 明郎 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-287558
公開番号(公開出願番号):特開2001-104734
出願日: 1999年10月08日
公開日(公表日): 2001年04月17日
要約:
【要約】【課題】 広い設置面積を要することなく広いろ過面積を確保することができ、しかもフィルタエレメントの交換や点検をケーシングの内部に入ることなく行える集塵装置を提供する。【解決手段】 フラットな天板2の下方に断面V字状の絞り部3を設けたケーシングユニット1を上下に積層し、連通する含塵ガス室8とする。各ケーシングユニット1の天板2にフィルタユニット10を上方から落とし込むように装着し、作業員が天板2の上に立ってフィルタユニット10の蓋を開き、セラミックフィルタエレメント12を上方に引き抜けるようにした。
請求項(抜粋):
フラットな天板の下方に断面V字状の絞り部を設けたケーシングユニットを上下に積層してその内部を連通する含塵ガス室とするとともに、各ケーシングユニットの天板に、含塵ガス室内の含塵ガスをろ過するフィルタユニットを上方から落とし込むように装着したことを特徴とする集塵装置。
IPC (2件):
B01D 46/24 ,  B01D 46/00
FI (2件):
B01D 46/24 B ,  B01D 46/00 F
Fターム (8件):
4D058JA02 ,  4D058JA39 ,  4D058JB06 ,  4D058KA25 ,  4D058KB05 ,  4D058KB12 ,  4D058KC81 ,  4D058UA25
引用特許:
出願人引用 (3件)
  • 濾過モジュール
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-136963   出願人:シエル・インターナシヨネイル・リサーチ・マーチヤツピイ・ベー・ウイ
  • 特開昭53-031263
  • 特開昭54-090664
審査官引用 (2件)
  • 濾過モジュール
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-136963   出願人:シエル・インターナシヨネイル・リサーチ・マーチヤツピイ・ベー・ウイ
  • 特開昭53-031263

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