特許
J-GLOBAL ID：200903055780437213
物体の絶対座標測定方法および装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
前田 弘
, 小山 廣毅
, 竹内 宏
, 竹内 祐二
, 今江 克実
, 原田 智雄
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-576887
公開番号（公開出願番号）：特表2005-520142
出願日： 2003年03月19日
公開日（公表日）： 2005年07月07日
要約：
物体(1)の絶対座標を測定する方法において、物体(1)に、投影格子(2)を通して光(3)を当てる。物体(1)により反射した光(4)は、センサ(5)に記録される。センサ(5)に撮影された画像が測定される。そのような方法を改良するため、投影格子(2)は、第1の格子ベクトル(G1)を有する第1の格子と、第1の格子ベクトルとは異なる第2の格子ベクトル(G2)を有する第2の格子とを備えている。センサ(5)は、第1および第2の格子からセンサ(5)に達する基底ベクトル(b)の該基底ベクトルに対応する格子ベクトル(G1,G2)上への射影(bx,by)の大きさが異なるように、投影格子(2)から距離(b)を置いて配置される。
請求項（抜粋）：
投影格子(2)を通して物体(1)に光(3)を当て、
上記物体(1)により反射した光(4)がセンサ(5)に記録され、該センサ(5)に撮影された画像が測定される、物体の絶対座標測定方法であって、
上記投影格子(2)は、第1の格子ベクトル(G1)を有する第1の格子と、上記第1の格子ベクトルとは異なる第2の格子ベクトル(G2)を有する第2の格子とを備えており、
上記センサ(5)は、上記第1および第2の格子から上記センサ(5)に達する基底ベクトル(b)の該基底ベクトルに対応する上記両格子ベクトル(G1,G2)上への射影(bx,by)の大きさが異なるように、上記投影格子(2)から距離(b)を置いて配置されることを特徴とする方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (9件)：
2F065FF04
, 2F065FF09
, 2F065FF51
, 2F065JJ05
, 2F065JJ19
, 2F065JJ26
, 2F065LL41
, 2F065QQ24
, 2F065QQ31
