レジストの現像方法および現像装置

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-125826
公開番号（公開出願番号）：特開平10-319604
出願日： 1997年05月15日
公開日（公表日）： 1998年12月04日
要約：

【要約】【課題】現像の精度・制御性を劣化させることなく、現像液の利用効率を改善することの可能な、レジストの現像方法を提供することを目的とする。【解決手段】複数の基板上に形成され、所定のパターンに露光されたレジスト膜のそれぞれに対し、現像液を循環させて施すことにより順に現像する方法であって、それぞれの現像に際し、現像液の導電率および吸光度を測定およびモニターし、これらの測定値から現像液のpHを順次算出し、このpH値を所定の範囲内に維持するように制御することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

複数の基板上に形成され、所定のパターンに露光されたレジスト膜のそれぞれに対し、現像液を循環させて施すことにより順に現像する方法であって、それぞれの現像に際し、現像液の導電率および吸光度を測定およびモニターし、これらの測定値から現像液のpH値またはそれに対応する値を順次算出し、このpH値またはそれに対応する値を所定の範囲内に維持するように制御することを特徴とするレジストの現像方法。

IPC (8件)：

G03F 7/30 , G03F 7/30 501 , G01N 21/59 , G01N 27/06 , G02B 5/20 101 , G02F 1/1335 505 , G03F 7/26 501 , H01L 21/027

FI (8件)：

G03F 7/30 , G03F 7/30 501 , G01N 21/59 Z , G01N 27/06 A , G02B 5/20 101 , G02F 1/1335 505 , G03F 7/26 501 , H01L 21/30 569 F

引用特許：

出願人引用 (5件)

基板現像装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-255426 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
現像液管理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-222130 出願人：株式会社平間理化研究所, 長瀬産業株式会社
基板現像装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-158269 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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審査官引用 (5件)

基板現像装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-255426 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
現像液管理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-222130 出願人：株式会社平間理化研究所, 長瀬産業株式会社
基板現像装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-158269 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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