特許
J-GLOBAL ID：200903055820332096
干渉測定方法及び干渉測定システム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
佐野 静夫
, 山田 茂樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-006335
公開番号（公開出願番号）：特開2005-201703
出願日： 2004年01月14日
公開日（公表日）： 2005年07月28日
要約：
【課題】 光学的な手法により被検光学素子の傾きを高い精度で調整して、被検光学素子の透過波面収差を高い精度で測定することを可能にする干渉測定方法と干渉測定システムを提供する。 【解決手段】 干渉計Aの被検光束が基準平面部材Bに対し垂直入射するように、干渉計Aと基準平面部材Bとの相対位置を調整する。光学的傾き検出手段Cの被検光束が基準平面部材Bに対し垂直入射するように、光学的傾き検出手段Cと基準平面部材Bとの相対位置を調整する。基準平面部材Bを被検光学素子Dに置き換えた後、干渉計Aに対する被検光学素子Dの傾きを光学的傾き検出手段Cで検出する。その検出結果に基づいて干渉計Aに対する被検光学素子Dの傾きを調整した後、干渉計Aで被検光学素子Dの透過波面を測定する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
干渉計と光学的傾き検出手段とで互いの被検光束が平行になるように相対位置を調整し、前記干渉計に対する被検光学素子の傾きを前記光学的傾き検出手段で検出し、その検出結果に基づいて前記干渉計に対する被検光学素子の傾きを調整した後、前記干渉計で被検光学素子の透過波面を測定することを特徴とする干渉測定方法。
IPC (3件)：
G01M11/02
, G01B9/02
, G01M11/00
G01M11/02 B
, G01B9/02
, G01M11/00 L
2F064AA09
, 2F064BB03
, 2F064DD01
, 2F064DD08
, 2F064EE02
, 2F064FF01
, 2F064GG22
, 2F064GG44
, 2F064GG51
, 2F064HH03
, 2F064HH08
, 2F064JJ01
, 2F064KK04
, 2G086FF04
, 2G086HH06
出願人引用 (1件)
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レンズの干渉計測法
公報種別：公開公報
出願番号：特願平9-050884
出願人：株式会社ニコン
審査官引用 (1件)
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