特許
J-GLOBAL ID：200903055846721724
案内管の流束集中を制御する方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松本 研一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-399773
公開番号（公開出願番号）：特開2001-316734
出願日： 2000年12月28日
公開日（公表日）： 2001年11月16日
要約：
【要約】【課題】 金属精錬装置等で銅案内管を用いて精錬金属を出湯する際に電磁束を印加し、制御しかつ集中させる。【解決手段】 金属精錬装置の出湯案内管(22)内の電磁束集中を制御する方法。出湯案内管は、底板(28)、延長部(29)、金属の流れを導くため液体金属源から出湯案内管の出口まで延長部を貫通する中心オリフィス(32)、出湯案内管電磁束集中内部形状、及び出湯案内管に電磁場を発生させる誘導加熱装置(38)を含む。誘導加熱装置は延長部との間に間隙をなすように延長部に配置され、誘導加熱装置と出湯案内管は相対的垂直運動が可能で運動後の互いの位置は間隙が実質的に一定となる。電磁束集中を制御する方法は、誘導加熱装置に電流を流す段階、電流を流す段階に起因して電磁場を生成する段階、及び電磁場を生成する段階に呼応して中心オリフィスの出湯案内管電磁束集中内部形状で画成される部分に電磁束を導く段階を含む。
請求項（抜粋）：
金属精錬装置用の出湯案内管内の電磁束集中を制御する方法であって、上記出湯案内管(22)が、底板(28)、延長部(29)、金属の流れを導くため液体金属源から出湯案内管の出口まで延長部を貫通する中心オリフィス(32)、出湯案内管電磁束集中内部形状、及び出湯案内管に電磁場を発生させる誘導加熱装置(38)を含んでなり、上記誘導加熱装置が延長部との間に間隙をなすように延長部に配置され、上記誘導加熱装置と出湯案内管は相対的垂直運動が可能で運動後の互いの位置は間隙が実質的に一定であり、電磁束集中を制御する当該方法が、誘導加熱装置に電流を流す段階、電流を流す段階に起因して電磁場を生成する段階、及び電磁場を生成する段階に呼応して中心オリフィスの出湯案内管電磁束集中内部形状で画成される部分に電磁束を導く段階、を含んでなり、電磁束を導く段階が熱も発生し、かつ熱が液相状態の金属の流れの流量の制御をもたらし、電磁場が誘導加熱装置と出湯案内管との相対的な垂直運動及び運動後の互いの位置とは無関係に実質的に一定レベルで印加される、方法。
IPC (3件)：
C22B 9/18
, C22B 9/187
, C22B 9/22
