特許

J-GLOBAL ID：200903055870327301

基板処理装置

発明者： 西村 讓一 ,  大谷 正美 ,  枦木 憲二 ,  志賀 正佳
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-217882
公開番号（公開出願番号）：特開2003-031640
出願日： 2001年07月18日
公開日（公表日）： 2003年01月31日
要約：

【要約】【課題】 フットプリントを増大させることなく基板の検査を行える機能を備えた基板処理装置を提供する。【解決手段】 基板処理装置は、基板に所定の処理を行う処理ユニットを配置したユニット配置部MPとインデクサ部IDとを備える。インデクサIDは、複数の基板を収納可能なキャリアCを載置して該キャリアCから未処理の基板を取り出してユニット配置部MPに渡すとともに、ユニット配置部MPから処理済の基板を受け取ってキャリアCに収納する。マクロ欠陥検査やパターンの線幅測定等を行う検査ユニット10および検査ユニット20はインデクサIDの内部に配置している。このため、フットプリントを増大させることなく基板の検査を行える機能を基板処理装置に付与することができる。

請求項（抜粋）：

基板に所定の処理を行う処理ユニットを配置したユニット配置部と、複数の基板を収納可能なキャリアを載置して該キャリアから未処理の基板を取り出して前記ユニット配置部に渡すとともに、前記ユニット配置部から処理済の基板を受け取って前記キャリアに収納するインデクサ部とを備えた基板処理装置であって、基板に対して所定の検査を行う検査部を前記インデクサ部に配置することを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 562

Fターム (36件)：

5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031DA01 ,  5F031DA08 ,  5F031DA17 ,  5F031EA14 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA14 ,  5F031GA02 ,  5F031GA43 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031GA50 ,  5F031JA32 ,  5F031JA37 ,  5F031JA40 ,  5F031LA12 ,  5F031LA13 ,  5F031MA02 ,  5F031MA03 ,  5F031MA09 ,  5F031MA13 ,  5F031MA23 ,  5F031MA24 ,  5F031MA26 ,  5F031MA33 ,  5F031NA03 ,  5F031NA16 ,  5F046JA21 ,  5F046JA27 ,  5F046LA18 ,  5F046LA19

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-240599   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• ウエハ検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-002924   出願人：オリンパス光学工業株式会社