特許

J-GLOBAL ID：200903055883858250

窒素処理システム

発明者： 広 直樹 ,  樂間 毅 ,  小泉 友人
出願人/特許権者： 三洋電機株式会社
代理人 (1件)： 雨笠 敬
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-256267
公開番号（公開出願番号）：特開2003-062577
出願日： 2001年08月27日
公開日（公表日）： 2003年03月04日
要約：

【要約】【課題】 希薄塩化物イオン条件下であっても、効率的に窒素化合物の除去を行うことができる窒素処理システムを提供する。【解決手段】 本発明は、アノード5とカソード6間に電圧を印加し、電解によって被処理水中の窒素化合物を処理する窒素処理システムであって、カソード6を構成する金属材料として、周期表の第Ib族又は第IIb族を含む導電体、若しくは、同族を導電体に被覆したものを用いると共に、このカソード6とアノード5間に印加する電圧を制御する制御装置12を設け、この制御装置12は、カソード6とアノード5間に印加する電圧を、所定の最大値と最小値の間で周期的に変化させ、且つ、印加電圧の最小値を少なくとも零よりも高い電圧とする。

請求項（抜粋）：

アノードとカソード間に電圧を印加し、電解によって被処理水中の窒素化合物を処理するシステムであって、前記カソードを構成する金属材料として、周期表の第Ib族又は第IIb族を含む導電体、若しくは、同族を導電体に被覆したものを用いると共に、該カソードと前記アノード間に印加する電圧を制御する制御装置を設け、該制御装置は、前記カソードとアノード間に印加する電圧を、所定の最大値と最小値の間で周期的に変化させ、且つ、前記印加電圧の最小値を少なくとも零よりも高い電圧とすることを特徴とする窒素処理システム。

FI (2件)：

C02F 1/46 101 A ,  C02F 1/46 101 C

Fターム (19件)：

4D061DA08 ,  4D061DB10 ,  4D061DB19 ,  4D061DC14 ,  4D061DC15 ,  4D061EA03 ,  4D061EA04 ,  4D061EB11 ,  4D061EB19 ,  4D061EB27 ,  4D061EB28 ,  4D061EB30 ,  4D061EB31 ,  4D061EB37 ,  4D061EB39 ,  4D061GA06 ,  4D061GA12 ,  4D061GC14 ,  4D061GC15

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 次亜塩素酸発生システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-256276   出願人：三洋電機株式会社
• 特許第3495722号
  
• 特開昭54-128161
  
• 特開昭59-023888