超臨界液体現像性フォトレジストとしてのブロックコポリマーの使用

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：青山葆 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-533479
公開番号（公開出願番号）：特表2003-513310
出願日： 2000年10月16日
公開日（公表日）： 2003年04月08日
要約：

【要約】張り出したフルオロ含有基を有するブロックと張り出した加水分解し得るエステル含有基を有するブロックとを含有するブロックコポリマーは、同じモノマーのランダムコポリマーよりも低い圧力と温度で現像される。エステル基を有するブロックが2-テトラヒドロピラニルメタクリレートの重合でつくられ、張り出したフルオロ含有基を有するブロックがパーフルオロアルキルメタクリレートもしくは半フッ素化アリキルメタクリレートの重合でつくられる場合、0.3μm以下の形状の解像が可能である。

請求項（抜粋）：

以下の工程からなるネガ型トーンレジストイメージをつくるための方法:(a)(i)張り出したフルオロ含有基を有するブロックおよび(ii)張り出した加水分解し得るエステル含有基を含むブロックコポリマーを含有するフィルムで支持体を被覆すること、なおブロック(i)の容量%は、工程(c)で除去されるフィルム領域に完全な溶解性を提供するに充分なほど大きいが、0.3μm以下の形状が工程(c)で解像され得ない程大きくはない;(b)工程(c)で使用される超臨界の液体中で不溶性の極性の機能体に加水分解し得るエステルを加水分解し、フィルムの超臨界流体に可溶性領域および不溶性領域によって識別されたパターンを形成すること、および、(c)超臨界流体によるパターンからネガ型トーンレジストイメージを現像し、フィルムの超臨界流体の可溶性領域を溶解すること。

IPC (4件)：

G03F 7/038 601 , C08F293/00 , G03F 7/36 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/038 601 , C08F293/00 , G03F 7/36 , H01L 21/30 502 R

Fターム (29件)：

2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025AD07 , 2H025BD21 , 2H025BD42 , 2H025BE00 , 2H025FA03 , 2H025FA14 , 2H096AA25 , 2H096BA01 , 2H096BA06 , 2H096BA20 , 2H096EA05 , 2H096GA60 , 4J026HA12 , 4J026HA25 , 4J026HA28 , 4J026HA29 , 4J026HA32 , 4J026HB11 , 4J026HB25 , 4J026HB28 , 4J026HB29 , 4J026HB32 , 4J026HB45 , 4J026HB48 , 4J026HE01

引用特許：

審査官引用 (1件)

陰画調レジスト像の作製方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-022341 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション

引用文献：

審査官引用 (3件)

前のページに戻る