特許

J-GLOBAL ID：200903021177836780

陰画調レジスト像の作製方法

発明者： ロバート・デービッド・アレン ,  グレゴリー・マイケル・ウォールラフ
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
代理人 (1件)： 合田 潔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-022341
公開番号（公開出願番号）：特開平8-250416
出願日： 1996年02月08日
公開日（公表日）： 1996年09月27日
要約：

【要約】【課題】 深紫外線光を使用して、陰画調レジスト像を作製する方法を提供する。【解決手段】 この方法は、(1)基板を、(i)ポリマーと(ii)感光性酸生成剤と、(iii)酸に不安定な基とを含む、臨界流体に可溶なポリマー組成物のフィルムで被覆するステップと、(2)フィルムを放射線でイメージに従って露光して、フィルムの露光部分を不溶化するステップと、(3)イメージを臨界流体で現像するステップとを含む。使用済みの臨界流体は、その温度と圧力を常温常圧にすると、溶け込んでいたポリマー組成物の溶解度が下がり、沈澱させることができるので、再生して使用することができる。

請求項（抜粋）：

(a)(i)ポリマーと、(ii)感光性酸生成剤と、(iii)酸に不安定な基とを含むポリマー・フィルムで基板を被覆するステップと、(b)前記フィルムを放射線で像に従って露光し、前記フィルム中に遊離酸を生成させるステップと、(c)臨界流体で前記像を現像するステップとを含む、陰画調レジスト像を作製する方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/32

FI (3件)：

H01L 21/30 562 ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/32

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 特開平1-220828
  
• 特開昭59-045439
  
• 放射線感応性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-124774   出願人：沖電気工業株式会社
• 特開平1-220828
  
• 特開昭59-045439
  
• 感光性組成物のパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-026994   出願人：富士写真フイルム株式会社