特許
J-GLOBAL ID：200903055890218266
グレートーンマスクの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-256531
公開番号（公開出願番号）：特開2003-173015
出願日： 2002年09月02日
公開日（公表日）： 2003年06月20日
要約：
【要約】【課題】 所定のグレートーンパターンを少なくとも一部に有しているグレートーンマスクについて、所定のグレートーンパターンの寸法精度を満たすことができるグレートーンマスクの製造方法を提供する。【解決手段】 グレートーンマスクの製造過程で基板に塗布されるレジスト膜厚の面内分布を±1%以下に抑える。これにより、例えば図5に示す所定のグレートーンパターン30を少なくとも一部に有しているグレートーンマスクについて、所定のグレートーンパターンの寸法精度を満たすことができる。
請求項（抜粋）：
遮光部と、透光部と、マスクを使用する露光機の解像限界以下のパターン寸法を有する遮光パターンを形成した領域であってこの領域を透過する露光光の透過量を低減させるグレートーン部とを有するグレートーンマスクの製造方法であって、グレートーンマスクの製造過程で基板に塗布されるレジスト膜のグレートーン部が形成される領域内のレジスト膜厚の面内分布を±1%以下に抑えることを特徴とするグレートーンマスクの製造方法。
Fターム (1件)：
引用特許：
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