特許
J-GLOBAL ID:200903055940408860

太陽電池の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 曾我 道照 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-018830
公開番号(公開出願番号):特開平11-220146
出願日: 1998年01月30日
公開日(公表日): 1999年08月10日
要約:
【要約】【課題】 実用的な手段で光閉じ込めを効果的にする為の凹凸形状の形成が可能であり、工程の簡略化と低コスト化が実現できる太陽電池の製造方法を提供すること。【解決手段】 機械加工によりスライスされて形成された粗の表面を有するSi基板1に対して、主として上記スライス工程で損傷を受けた表層部7を除去すると共に、上記スライス工程にて形成された凹凸形状8を残すために、0.25〜3.0mol/lの水酸化アルカリを含む水溶液を用いてエッチングを行う。
請求項(抜粋):
機械加工によりスライスされて形成された粗の表面を有するSi基板に対して、主として上記スライス工程で損傷を受けた表層部を除去すると共に、上記スライス工程にて形成された凹凸形状を残すために、0.25〜3.0mol/lの水酸化アルカリを含む水溶液を用いてエッチングを行うことを特徴とする太陽電池の製造方法。
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 薄膜太陽電池
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-283804   出願人:大同ほくさん株式会社

前のページに戻る