特許
J-GLOBAL ID:200903055986336618

成膜装置及び方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 井上 義雄 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-182242
公開番号(公開出願番号):特開2001-011607
出願日: 1999年06月28日
公開日(公表日): 2001年01月16日
要約:
【要約】【課題】 均質な成膜が可能で、溝や穴の埋め込みが容易な成膜装置及び方法を提供すること。【解決手段】 ハース本体53は、膜材料の金属融液MLを溜める円筒状の容器53aからなり、ハース51上部に形成した凹部である支持部51a内に配置されている。容器53aの裏面53bと、支持部51aの底面51bとの間には、伝熱制御手段として熱伝導率の低い断熱部材54を挿入している。断熱部材54は、平板状であり、底面51b及び裏面53bに密着しており、例えばTiC製の導電性セラミックプレートとすることができる。こような断熱部材54を用いた場合、ハース本体53から支持部51aに伝導する熱を抑制できるので、ハース本体53が熱的に孤立した状態に近づき、ハース本体53に収容された金属融液MLの温度分布を比較的均一で安定したものとすることができる。
請求項(抜粋):
プラズマビームを成膜室中に供給するプラズマ源と、膜材料を収容可能な材料蒸発源と、前記材料蒸発源を支持する支持部材と、前記材料蒸発源から前記支持部材に伝導する熱を制御する伝熱制御手段とを有するとともに、前記成膜室中に配置されて前記プラズマビームを導くハースと、を備える成膜装置。
IPC (3件):
C23C 14/32 ,  H05H 1/24 ,  H01L 21/285
FI (3件):
C23C 14/32 B ,  H05H 1/24 ,  H01L 21/285 B
Fターム (7件):
4K029AA29 ,  4K029CA03 ,  4K029DD05 ,  4K029EA00 ,  4M104BB18 ,  4M104DD36 ,  4M104HH20
引用特許:
審査官引用 (3件)

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