プラズマ処理装置および処理方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-289303
公開番号（公開出願番号）：特開2002-100611
出願日： 2000年09月22日
公開日（公表日）： 2002年04月05日
要約：

【要約】【課題】プラズマ処理装置の状態変化を正確に捉える監視システムを提供する。【解決手段】試料を処理する処理チャンバ1を有するプラズマ処理装置において、チャンバ内部の処理状態を検出し複数の出力信号を出力する状態検出手段と、信号フィルタを集めたデータベース10から信号フィルタ選択手段11により任意の数の信号処理フィルタを取り出して構成され任意の数の装置状態信号を生成する信号変換部9a、9bとを備え、前記信号変換部において前記出力信号から該出力信号より少ない数の時系列を持つ前記装置状態信号を生成することを特徴とするプラズマ処理装置。

請求項（抜粋）：

試料を処理する処理チャンバを有するプラズマ処理装置において、チャンバ内部の処理状態を検出し複数の出力信号を出力する状態検出手段と、信号フィルタを集めたデータベースから信号フィルタ選択手段により任意の数の信号処理フィルタを取り出して構成され任意の数の装置状態信号を生成する信号変換部とを備え、前記信号変換部において前記出力信号から該出力信号より少ない数の時系列を持つ前記装置状態信号を生成することを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (6件)：

H01L 21/3065 , B01J 19/08 , C23C 16/52 , C23F 4/00 , H05H 1/00 , H05H 1/46

FI (6件)：

B01J 19/08 H , C23C 16/52 , C23F 4/00 A , H05H 1/00 A , H05H 1/46 A , H01L 21/302 E

Fターム (34件)：

4G075AA03 , 4G075AA24 , 4G075AA42 , 4G075AA51 , 4G075AA65 , 4G075BA02 , 4G075BC06 , 4G075BD14 , 4G075CA47 , 4G075DA01 , 4G075DA04 , 4G075EB01 , 4G075EB41 , 4G075EC01 , 4G075EC25 , 4K030FA01 , 4K030JA18 , 4K030KA39 , 4K030KA41 , 4K057DA19 , 4K057DA20 , 4K057DB06 , 4K057DD01 , 4K057DE11 , 4K057DM40 , 5F004AA13 , 5F004AA16 , 5F004CB02 , 5F004CB04 , 5F004CB05 , 5F004CB06 , 5F004CB09 , 5F004DA00 , 5F004DB01

引用特許：

審査官引用 (2件)

プラズマエッチング装置のエッチングモニタ
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-279683 出願人：株式会社日立製作所
ドライエッチングの終点検出方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-096962 出願人：株式会社リコー

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