特許
J-GLOBAL ID：200903056081095524
真空蒸着装置及び真空蒸着方法
発明者：
,
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
,
,
代理人 (1件)：
西川 惠清 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-329675
公開番号（公開出願番号）：特開2003-129224
出願日： 2001年10月26日
公開日（公表日）： 2003年05月08日
要約：
【要約】【課題】 蒸発源のセット、補充、取り換え等の作業が容易になり、さらに生産性を高めることができる真空蒸着装置を提供する。【解決手段】 真空チャンバー1内に蒸発源2と被蒸着体3を配置すると共に蒸発源2と被蒸着体3の間の空間を蒸発源2の物質が気化される温度で加熱された筒状体4で囲み、蒸発源2から気化した物質を筒状体4内を通して被蒸着体3の表面に到達させて蒸着させるようにした真空蒸着装置に関する。このものにおいて、真空チャンバー1を筒状体4が設けられた蒸着室5と、蒸発源2がセットされる蒸発室6とに分割し、蒸着室5に蒸発室6を着脱自在に結合するようにしてある。
請求項（抜粋）：
真空チャンバー内に蒸発源と被蒸着体を配置すると共に蒸発源と被蒸着体の間の空間を蒸発源の物質が気化される温度で加熱された筒状体で囲み、蒸発源から気化した物質を筒状体内を通して被蒸着体の表面に到達させて蒸着させるようにした真空蒸着装置において、真空チャンバーを筒状体が設けられた蒸着室と、蒸発源がセットされる蒸発室とに分割して形成し、蒸着室に蒸発室を着脱自在に結合して成ることを特徴とする真空蒸着装置。
Fターム (7件)：
4K029CA01
, 4K029DA01
, 4K029DB12
, 4K029DB14
, 4K029DB15
, 4K029DB18
, 4K029EA07
