特許
J-GLOBAL ID：200903056081572870
位相シフトマスク及び位相差測定方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松浦 兼行
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-249108
公開番号（公開出願番号）：特開平8-114909
出願日： 1994年10月14日
公開日（公表日）： 1996年05月07日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、感光性樹脂をより垂直なパターン形状として安定したパターンが形成されたあるいは焦点深度が広い位相シフトマスク及びハーフトーン方式の位相シフトマスクでも実際の微細パターンでの位相差を測定し得る位相差測定方法を提供することを目的とする。【構成】 透明基板1上に半透明膜2を部分的に形成して透明基板1のみを光が透過する透明領域3と、透明基板1及び半透明膜2をそれぞれ光が透過する半透明領域4とからなるパターンを有する位相シフトマスクにおいて、透明領域3を透過する光と半透明領域4を透過する光との位相差が185°±4°の範囲内の値とされている。これにより、感光性樹脂に垂直の断面形状のパターンを開口できる。上記の位相差は150°〜179°の範囲内の値とされていてもよい。
請求項（抜粋）：
透明基板上に半透明膜を部分的に形成して透明基板のみを光が透過する透明領域と、透明基板及び半透明膜をそれぞれ光が透過する半透明領域とからなるパターンを有する位相シフトマスクにおいて、前記透明領域を透過する光と前記半透明領域を透過する光との位相差を181°〜210°の範囲内の値としたことを特徴とする位相シフトマスク。
IPC (4件)：
G03F 1/08
, G01J 9/00
, G01M 11/00
, H01L 21/027
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 502 V
, H01L 21/30 528
