特許

J-GLOBAL ID：200903056102560184

セルローストリアセテートフィルムの製造方法

発明者： 橋本 勝也 ,  竹田 昭彦 ,  萩原 俊幸 ,  清水 和之 ,  秋山 正巳
出願人/特許権者： コニカ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-214501
公開番号（公開出願番号）：特開平11-048271
出願日： 1997年08月08日
公開日（公表日）： 1999年02月23日
要約：

【要約】【課題】 セルローストリアセテートフィルムを溶液製膜方法で製造する方法において、50重量%以上の時点で幅延伸装置で幅保持を行って高温乾燥させると、 急激な収縮に対抗してウエブに大きな力が発生し、乾燥中にウエブが切断したりかえってムラに引っ張られたりしてフィルムの平面性が劣化する。【解決手段】 図1の剥離部4で剥離されたウエブ1をその溶媒含有率が50重量%未満、12重量%以上の時点で、幅延伸装置で延伸しつつ乾燥させることによってセルローストリアセテートフィルムの平面性やムラの発生を解決出来る。また溶媒含有率が10以下の時点で加圧装置によってウエブの両面から0.2kPa以上10kPa以下の圧力を付与することによっても解決され得る。

請求項（抜粋）：

セルローストリアセテートフィルムの溶液流延製膜方法において、乾燥過程でのセルローストリアセテートフィルムの溶媒含有率X<SB>0</SB>(重量%)が下記式12≦X<SB>0</SB><50の範囲内の乾燥過程の任意の時点において該フィルムの幅手方向に張力付与を開始することを特徴とするセルローストリアセテートフィルムの製造方法。

IPC (7件)：

B29C 41/24 ,  B29C 71/00 ,  B29D 7/00 ,  C08J 5/18 CEP ,  C08L 1/12 ,  B29K 1:00 ,  B29L 7:00

FI (5件)：

B29C 41/24 ,  B29C 71/00 ,  B29D 7/00 ,  C08J 5/18 CEP ,  C08L 1/12

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 偏光板保護膜およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-299228   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 特開平4-152125
  
• 特開平2-204011
  
• 特開昭59-133018