パターン形成体およびパターン形成方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山下昭彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-395028
公開番号（公開出願番号）：特開2002-274077
出願日： 1998年06月12日
公開日（公表日）： 2002年09月25日
要約：

【要約】【課題】光触媒を使用したパターン形成体を提供する。【解決手段】基体上に光触媒含有層を有し、光触媒含有層は、パターンの露光によって光触媒の作用によって濡れ性が変化する物質を含有する層、光触媒含有層上に、パターンの露光によって光触媒の作用によって濡れ性が変化する物質の含有層、基材上に光触媒含有層を有し光触媒含有層上にパターンの露光によって光触媒の作用により分解除去される層を有するか、もしくは基材上に、光触媒、パターンの露光によって光触媒の作用により分解される物質、および結着剤からなる組成物層を有し、露光によって濡れ性を変化させることによってパターンを記録するパターン形成体。

請求項（抜粋）：

光学的にパターンを形成するパターン形成体において、基材上に光触媒含有層を有し、光触媒含有層は、パターンの露光によって光触媒の作用により濡れ性が変化する物質を含有することを特徴とするパターン形成体。

IPC (4件)：

B41N 1/14 , B41C 1/10 , G03F 7/00 503 , G03F 7/004 521

FI (4件)：

B41N 1/14 , B41C 1/10 , G03F 7/00 503 , G03F 7/004 521

Fターム (36件)：

2H025AB03 , 2H025AC01 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BB00 , 2H025BH03 , 2H025CB32 , 2H025CB41 , 2H084AA30 , 2H084AA40 , 2H084AE03 , 2H084BB02 , 2H084CC05 , 2H096AA06 , 2H096BA13 , 2H096HA07 , 2H096LA30 , 2H114AA05 , 2H114AA11 , 2H114AA14 , 2H114AA22 , 2H114BA01 , 2H114DA08 , 2H114DA15 , 2H114DA23 , 2H114DA38 , 2H114DA39 , 2H114DA52 , 2H114DA57 , 2H114DA72 , 2H114DA73 , 2H114EA03 , 2H114EA06 , 2H114FA16 , 2H114GA34 , 2H114GA38

引用特許：

審査官引用 (5件)

親水-疎水変換性能を有する部材及びそれを利用した装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-221640 出願人：東陶機器株式会社
平版印刷原版及びそれを用いた平版印刷版の作成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-253526 出願人：富士写真フイルム株式会社
平版印刷用原版及びそれを用いた平版印刷版の作成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-268767 出願人：富士写真フイルム株式会社

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