マグネトロンスパッタ方法及び装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：八木田茂 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-161370
公開番号（公開出願番号）：特開平7-018435
出願日： 1993年06月30日
公開日（公表日）： 1995年01月20日
要約：

【要約】【目的】インライン式のマグネトロンスパッタ方法及び装置において、使用するターゲットの利用効率を改善ること、一定の膜形成速度を得ること、及び均一な膜特性を得ること。【構成】ターゲットの背面に設けた永久磁石から成るマグネトロン磁気回路を基板の搬送方向に沿って前後方向に等速往復動させること、及び各基板上における成膜速度が一定となるように磁気回路の移動方向に応してターゲットへ印加する放電パワーを制御すること。

請求項（抜粋）：

スパッタ室内に配置したターゲットに対向した位置を通って連続的に搬送される基板上に連続的に薄膜を形成するインライン式のマグネトロンスパッタ方法において、ターゲットの背面に設けられた永久磁石から成るマグネトロン磁気回路を基板の搬送方向に沿って前後方向に等速往復動させると共に、各基板上における成膜速度が一定となるように磁気回路の移動方向に応してターゲットへ印加する放電パワーを制御することを特徴とするマグネトロンスパッタ方法。

IPC (2件)：

C23C 14/35 , C23C 14/54

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平4-017671
透明電極膜の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-262308 出願人：大日本印刷株式会社
特開昭62-211378

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