特許
J-GLOBAL ID:200903056200742673

SiO▲2▼粒状物質の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 曾我 道照 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-191377
公開番号(公開出願番号):特開平11-130417
出願日: 1998年07月07日
公開日(公表日): 1999年05月18日
要約:
【要約】【課題】 均一な形態の球状粒子から本質的になる高純度の均質で且つ緻密なSiO2粒状物質の製造方法の提供。【解決手段】 液体中に珪酸を分散させ、分散液を攪拌タンク中で連続的に攪拌して均質な液相を形成させ、粒状塊の形成により分散液から湿気を徐々に取り去り、そして粒状塊を乾燥及び焼結することによりSiO2粒状物質を製造する方法において、65重量%〜80重量%の範囲内の前記分散液の固体含量で粒状塊が前記均質な液相から成長するように、攪拌動作を調整する。
請求項(抜粋):
液体中に珪酸を分散させ、分散液を攪拌タンク中で連続的に攪拌して均質な液相を形成させ、粒状塊の形成により分散液から湿気を徐々に取り去り、そして粒状塊を乾燥及び焼結することによりSiO2粒状物質を製造する方法において、65重量%〜80重量%の範囲内の前記分散液の固体含量で粒状塊が前記均質な液相から成長するように、攪拌動作が調整されることを特徴とする方法。
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • シリカ粒子の製造方法及びその粒子の使用
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-173551   出願人:信越石英株式会社, ヘレウス・クアルツグラース・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング

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