特許
J-GLOBAL ID：200903056263385668
FPD用保護膜及びこれを用いたFPD
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
須田 正義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-302404
公開番号（公開出願番号）：特開2002-110048
出願日： 2000年10月02日
公開日（公表日）： 2002年04月12日
要約：
【要約】【課題】保護膜の基板(誘電体層)との密着性及び整合性の低下を防止し、かつ保護膜の電気絶縁性の低下を防止する。また膜本体中のMgO等が大気中のCO<SB>2</SB>ガスやH<SB>2</SB>Oガスと反応することをフッ化物層が阻止することにより、MgO等のFPDに有害なMgCO<SB>3</SB>やMg(OH)<SB>2</SB>等への変質を防止する。【解決手段】基板13の表面に密接に立設された複数の柱状結晶子14aの集合体である膜本体14が形成され、この柱状結晶子14aの周側面及び頂面にフッ化物層15が形成される。フッ化物層15はMO<SB>X</SB>F<SB>Y</SB>(MはMg,Ca,Sr,Ba,アルカリ土類複合金属又は希土類金属,或いはアルカリ土類金属及び希土類金属の複合金属であり、0≦X<2,0<Y≦4である。)であり、このフッ化物層15はガス状フッ素化剤とMgO等との反応によって得られる。フッ素化剤はフッ素ガス、フッ化水素ガス、BF<SB>3</SB>、SbF<SB>5</SB>又はSF<SB>4</SB>がある。
請求項（抜粋）：
基板(13)の表面にMgO,CaO,SrO,BaO,アルカリ土類複合酸化物若しくは希土類酸化物,又はアルカリ土類酸化物及び希土類酸化物の複合酸化物のいずれかにより形成された膜本体(14)と、前記膜本体(14)の表面に形成されたフッ化物層(15)とを備え、前記膜本体(14)が前記基板(13)の表面に密接に立設された複数の柱状結晶子(14a)の集合体であり、前記フッ化物層(15)が前記複数の柱状結晶子(14a)の周側面及び頂面にそれぞれ形成されたFPD用保護膜。
IPC (2件)：
H01J 11/02
, G09F 9/00 302
H01J 11/02 B
, G09F 9/00 302
5C040FA01
, 5C040GB03
, 5C040GB14
, 5C040GE07
, 5C040GE09
, 5C040MA10
, 5C040MA26
, 5G435AA17
, 5G435BB06
, 5G435FF01
, 5G435HH02
