特許
J-GLOBAL ID：200903022253637900
FPD用保護膜の製造方法及びそのFPD用保護膜並びにこれを用いたFPD
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
須田 正義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-139766
公開番号（公開出願番号）：特開2000-331601
出願日： 1999年05月20日
公開日（公表日）： 2000年11月30日
要約：
【要約】【課題】 FPD製造工程における保護膜の表面が炭酸塩,水酸化物に変質するのを防止することができる。【解決手段】 先ず基板13の表面にアルカリ土類金属酸化物,アルカリ土類金属複合酸化物,希土類金属酸化物,又はアルカリ土類金属及び希土類金属の複合酸化物からなる保護膜14を形成し、この保護膜14をガス状フッ素化剤にて表面処理することにより保護膜14の表面にフッ化物層15を形成する。次に上記基板13を用いてFPD10を組立て、その後フッ化物層15を除去する。上記フッ化物層15はMO<SB>X</SB>F<SB>Y</SB>(但し、Mはアルカリ土類金属,アルカリ土類金属の複合金属,希土類金属,又はアルカリ土類金属及び希土類金属の複合金属であり、0≦X<2,0<Y≦4である。)であることが好ましい。
請求項（抜粋）：
基板(13)の表面にアルカリ土類金属酸化物,アルカリ土類金属複合酸化物,希土類金属酸化物,又はアルカリ土類金属及び希土類金属の複合酸化物からなる保護膜(14)を形成する工程と、前記保護膜(14)をガス状フッ素化剤にて表面処理することにより前記保護膜(14)の表面にフッ化物層(15)を形成する工程と、前記基板(13)を用いてFPD(10)を組立てた後に前記フッ化物層(15)を除去する工程とを含むFPD用保護膜の製造方法。
IPC (4件)：
H01J 9/02
, C23C 14/08
, C23C 14/58
, H01J 11/02
H01J 9/02 F
, C23C 14/08 J
, C23C 14/08 K
, C23C 14/58 Z
, H01J 11/02 B
4K029AA09
, 4K029BA42
, 4K029BA43
, 4K029BA50
, 4K029BD01
, 4K029CA05
, 4K029CA09
, 4K029DC02
, 4K029GA05
, 5C027AA07
, 5C027AA10
, 5C040FA01
, 5C040GE02
, 5C040GE07
, 5C040GE08
, 5C040GE09
, 5C040JA01
, 5C040JA07
, 5C040JA22
, 5C040KA04
, 5C040KB19
, 5C040KB28
, 5C040MA10
, 5C040MA17
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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