特許

J-GLOBAL ID：200903056267941239

ポジ型レジスト組成物

発明者： 青合 利明 ,  水谷 一良 ,  漢那 慎一
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-074337
公開番号（公開出願番号）：特開2002-351081
出願日： 2002年03月18日
公開日（公表日）： 2002年12月04日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 160nm以下、特にF2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には157nmの光源使用時に十分な透過性を示し、且つ塗布性、現像欠陥を満足するポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)下記一般式(I)の構造の繰り返し単位を少なくとも一つ有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。例えば

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(I)で示される繰り返し単位を少なくとも一つ有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。【化1】式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有していても良い、アルキル基又はハロアルキル基を表す。R2、R3は同じでも異なっていても良く、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、シアノ基、アルコキシ基、アシル基又は置換基を有していても良いアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アラルキル基もしくはアリール基を表す。R4は水素原子、置換基を有していても良い、アルキル基、パーフルオロアルキル基、シクロアルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルメチル基、又は式(II)の基を表す。【化2】R5、R6は同じでも異なっていても良く、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基もしくはシクロアルキル基を表す。R7は置換基を有していても良いアルキル基、パーフルオロアルキル基、シクロアルキル基、パーフルオロシクロアルキル基、アラルキル基もしくはアリール基を表す。またR5〜R7の2つが結合し、環を形成しても良い。

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (19件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AA18 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17

引用特許：

審査官引用 (1件)

• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-254106   出願人：住友化学工業株式会社