特許
J-GLOBAL ID:200903056327338472
触媒の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高橋 祥泰 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-189220
公開番号(公開出願番号):特開2000-015096
出願日: 1998年07月03日
公開日(公表日): 2000年01月18日
要約:
【要約】【課題】 担体に対して貴金属等の触媒成分が高分散配置されており,かつ耐久性の優れた触媒の製造方法を提供すること。【解決手段】 基材1の表面11に貴金属2を分散付着させる貴金属付着工程と,該貴金属2の上に担体物質3を被覆する担体被覆工程と,その後,上記多孔質基材1を除去する基材除去工程とを行ない,上記担体物質3に上記貴金属2を担持してなる貴金属担持触媒20を得ること。
請求項(抜粋):
基材の表面に触媒成分を分散付着させる触媒成分付着工程と,該触媒成分の上に担体物質を被覆する担体被覆工程と,その後,上記基材を除去する基材除去工程とを行ない,上記担体物質に上記触媒成分を担持してなる触媒を得ることを特徴とする触媒の製造方法。
IPC (2件):
B01J 23/38
, B01J 37/02 301
FI (2件):
B01J 23/38 M
, B01J 37/02 301 E
Fターム (15件):
4G069AA03
, 4G069AA08
, 4G069AA09
, 4G069BA02B
, 4G069BC32A
, 4G069BC33A
, 4G069BC69A
, 4G069EB19
, 4G069ED06
, 4G069FA02
, 4G069FB14
, 4G069FB30
, 4G069FB31
, 4G069FB77
, 4G069FB80
引用特許:
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