特許
J-GLOBAL ID：200903056377715153

回転式基板塗布装置

発明者：
西村 讓一

西村 讓一 について

, 
大谷 正美

大谷 正美 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-035564
公開番号（公開出願番号）：特開平9-213616
出願日： 1996年01月29日
公開日（公表日）： 1997年08月15日
要約：
【要約】【課題】 薄膜溶解ノズルの吐出位置の移動にかかわらず、基板表面に対する薄膜溶解ノズルの吐出方向を一定に維持できるようにする。【解決手段】 基板保持手段に保持されて、表面に回転塗布によって薄膜を形成した後の円形の基板Wの外周縁部に溶解液を吐出して基板外周縁部の不要薄膜を溶解除去する薄膜溶解ノズル13を設けるとともに、その薄膜溶解ノズル13を、平面視で基板外周縁部よりも外方に位置する待機位置と平面視で基板Wに重複する基板外周縁部の吐出位置とにわたって水平方向に移動するように構成し、かつ、薄膜溶解ノズル13を吐出位置にある状態で水平方向に移動するときに薄膜溶解ノズル13から吐出された溶解液の基板表面への到達点Qの移動軌跡Tの仮想延長線Lが基板Wの回転中心Pを通過するように構成する。
請求項（抜粋）：
円形の基板を回転駆動可能に保持する基板保持手段と、前記基板保持手段に保持された前記基板の回転中心相当箇所に塗布液を供給する塗布液供給手段と、表面に回転塗布によって薄膜を形成した後の基板の外周縁部に溶解液を吐出して基板外周縁部の不要薄膜を溶解除去する薄膜溶解ノズルと、前記薄膜溶解ノズルを、平面視で基板外周縁部よりも外方に位置する待機位置と平面視で基板に重複する基板外周縁部の吐出位置とにわたって水平方向に移動するノズル移動手段と、を備えた回転式基板塗布装置において、前記ノズル移動手段を、前記薄膜溶解ノズルを吐出位置にある状態で水平方向に移動するときに前記薄膜溶解ノズルから吐出された溶解液の前記基板の表面レベルでの到達点の移動軌跡の仮想延長線が前記基板の回転中心またはその近傍を通過するように構成したことを特徴とする回転式基板塗布装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  B05C 11/06 ,  B05D 1/40 ,  G03F 7/16 502
FI (4件)：
H01L 21/30 564 C ,  B05C 11/06 ,  B05D 1/40 A ,  G03F 7/16 502
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 特開平4-363015
  • 特開平4-363015
  • 塗膜装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-068238   出願人：オリンパス光学工業株式会社

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