特許
J-GLOBAL ID：200903056395647955

ポテンショメータ

発明者：
松本 直樹

松本 直樹 について


出願人/特許権者：
エヌオーケー株式会社

エヌオーケー株式会社 について


代理人 (1件)： 野本 陽一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-034284
公開番号（公開出願番号）：特開平10-223413
出願日： 1997年02月04日
公開日（公表日）： 1998年08月21日
要約：
【要約】【課題】 長期間にわたって安定した測定精度を維持することのできるポテンショメータを提供する。【解決手段】 磁石6によって流体室15内の磁性流体8が基板2側へ引き付けられるので、流体室15を密封している導電性ゴム膜7が、磁石6と対応する位置で基板2側へ膨らむように変形し、基板2の表面の抵抗パターン21と導体パターン22に接触して両者間を電気的に接続する。抵抗パターン21及び導体パターン22に対する導電性ゴム膜7の接点位置は、外部からの機械的変位量の入力によって移動する磁石6の位置に対応して連続的に変化するが、導電性ゴム膜7自体が移動するものではなく、基板2側へ膨らむ位置が変化するものであるため、導電性ゴム膜7は抵抗パターン21及び導体パターン22と摺動しない。
請求項（抜粋）：
表面に互いに近接して抵抗パターン(21)及び導体パターン(22)が形成された基板(2)と、この基板(2)の前記抵抗パターン(21)及び導体パターン(22)と反対側の面に対して近接配置され外部からの機械的変位量の入力によって前記抵抗パターン(21)及び導体パターン(22)の延長方向に相対移動される磁石(6)と、前記抵抗パターン(21)及び導体パターン(22)に沿って設けた流体室(15)を密閉した状態に配置され前記抵抗パターン(21)及び導体パターン(22)に近接対向された導電性ゴム膜(7)と、前記流体室(13)内に封入された磁性流体(8)とを備え、前記磁石(6)に引き寄せられる前記磁性流体(8)によって前記導電性ゴム膜(7)を前記抵抗パターン(21)及び導体パターン(22)に接触させることを特徴とするポテンショメータ。
IPC (3件)：
H01C 10/32 ,  H01C 1/12 ,  H01F 1/44
FI (3件)：
H01C 10/32 D ,  H01C 1/12 ,  H01F 1/28
引用特許：
審査官引用 (4件)
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