特許
J-GLOBAL ID:200903056466427072
外観検査装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件):
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 高柴 忠夫
, 増井 裕士
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-029282
公開番号(公開出願番号):特開2007-251143
出願日: 2007年02月08日
公開日(公表日): 2007年09月27日
要約:
【課題】専用のアライメント機構や自動焦点機構を用いることなく、基板の、予め設定された位置での画像、特に合焦状態の画像を得ることができる外観検査装置を提供する。【解決手段】ステージ2はウェハ1を吸着保持する。ステージ回転機構3はステージ2を回転させる。第1の撮像部5は第1の観察光学系4を通して、第2の撮像部8は第2の観察光学系7を通して、それぞれウェハ1を撮像し、画像信号を生成する。画像処理部101およびずれ量計算部102によって、第2の撮像部8で合焦が得られるときの位置からの第2の観察光学系7の位置のずれ量が検出される。この位置のずれ量に基づいて、移動機構制御部104および第2の移動機構9によって、ウェハ1に対する第2の観察光学系7の相対位置が制御される。【選択図】図1
請求項(抜粋):
基板を回転可能に保持する保持手段と、
前記基板を観察するための第1および第2の観察光学系と、
前記第1の観察光学系を通して前記基板を撮像し、第1の画像信号を生成する第1の撮像手段と、
前記第2の観察光学系を通して前記第1の撮像手段とは別方向から前記基板を撮像し、第2の画像信号を生成する第2の撮像手段と、
前記第1の撮像手段で撮像した画像上の予め設定された位置からの前記基板の位置のずれ量を検出する位置ずれ検出手段と、
前記位置ずれ検出手段によって検出された前記位置のずれ量に基づいて、前記基板に対する前記第2の観察光学系の相対位置を制御する相対位置制御手段と、
を備えたことを特徴とする外観検査装置。
IPC (3件):
H01L 21/66
, G01N 21/956
, G01B 11/00
FI (3件):
H01L21/66 J
, G01N21/956 A
, G01B11/00 H
Fターム (33件):
2F065AA03
, 2F065AA22
, 2F065AA37
, 2F065CC19
, 2F065FF10
, 2F065FF44
, 2F065JJ05
, 2F065MM04
, 2F065QQ24
, 2F065QQ25
, 2F065QQ31
, 2F065RR06
, 2G051AA51
, 2G051AB02
, 2G051AC12
, 2G051BB03
, 2G051CA04
, 2G051CA07
, 2G051DA08
, 2G051DA09
, 2G051EA08
, 2G051EA16
, 2G051EB01
, 2G051ED11
, 4M106AA01
, 4M106CA38
, 4M106DB04
, 4M106DB12
, 4M106DJ02
, 4M106DJ06
, 4M106DJ11
, 4M106DJ18
, 4M106DJ20
引用特許:
出願人引用 (1件)
-
観察装置及び観察方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-038178
出願人:株式会社日立製作所
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