遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萩野平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-361254
公開番号（公開出願番号）：特開平11-194496
出願日： 1997年12月26日
公開日（公表日）： 1999年07月21日
要約：

【要約】【課題】 ArFエキシマレーザー光源に対して好適で、ドライエッチング耐性が十分なレベルであって、標準現像液適性を有し、基板密着性に優れるとともに、さらに現像欠陥やクラッキングの発生を防止でき、レジストパターンプロファイルが優れる遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂及び活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物において、前記酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂が、特定の繰り返し単位を含む重合体および低分子カルボン酸を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂及び活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物において、前記酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂が、下記一般式〔I〕で表される繰り返し単位又は下記一般式〔II〕で表される繰り返し単位を含む重合体および低分子カルボン酸を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。【化1】【化2】式中、R1 〜R8 ,R1 ’〜R8 ’;同じでも異なってもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよい環状炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、および、酸の作用により分解する基、-C(=O)-X-A-R9 を表す。但し、R1 〜R8 ,R1 ’〜R8 ’のうち少なくとも1つは酸の作用により分解する基を表す。m/n;1/9〜9/1m+n、m’+n’;10〜100m’;0〜100n’;0〜100X;酸素原子、硫黄原子、-NH-、-NHSO2-、-NHSO2NH-から選ばれる2価の結合基、R9 ;-COOH、-COOR10' (R10' はR10および下記ラクトン構造の定義と同義)、-CN、水酸基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、-CO-NH-R10、-CO-NH-SO2-R10又は【化3】R10;置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよい環状アルキル基、R11〜R18;水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、A;単結合、アルキレン基、置換アルキレン基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、エステル基、アミド基、スルフォンアミド基、ウレタン基、又はウレア基よりなる群から選択される単独あるいは2つ以上の基の組み合わせ、a、b;1又は2を表す。

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 503 A , H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (1件)

レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-312670 出願人：日本ゼオン株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

DEEP-UV RESISTS WITH IMPROVED DELAY CAPABILITIES

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