特許
J-GLOBAL ID：200903056554208887
反応場アレー、反応場アレーの製造方法、反応場アレーを用いた反応方法及び反応場アレーを用いた試料溶液中の物質の定量方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-209922
公開番号（公開出願番号）：特開平11-099000
出願日： 1998年07月24日
公開日（公表日）： 1999年04月13日
要約：
【要約】【課題】 プローブの逐次合成を用いる場合のプローブの合成の確認が難しく、更に副産物の除去ができない、プローブを含む反応種を供給する際のクロスコンタミネーションが生じる、更には個別の反応領域の面積を必要十分に小さくできないという従来技術における問題点等を解決し、反応領域における反応の結果を、反応領域が微小である場合においても高感度に光学的に検出できる反応場アレーを提供すること。【解決手段】 液媒体中で2種以上の物質を反応させるための反応場の複数を互いに隔離して配列した反応場アレーを製造する際に、基板の液媒体に対して親和性を有する表面に、凸部により互いに隔離され、その底面に基板の表面が部分的に露出した凹部からなる反応場の所定の配列を有し、凸部表面が液媒体に対して非親和性であるマトリクスパターンを設けて反応場アレーを得る。
請求項（抜粋）：
液媒体中で2種以上の物質を反応させるための複数個の反応場が、該液媒体に対して所定の親和性を示す第1の領域で構成され、また各々の該反応場は前記液媒体に対して該第1の領域が示す親和性と比較して低い親和性を示す第2の領域によって互いに隔離されている反応場アレーの製造方法であって、前記液媒体に対して所定の親和性を示す基板表面に、該基板表面が前記液媒体に対して示す所定の親和性と比較して低い親和性を有する、該基板表面に対して凸状のマトリクスパターンを形成して、該マトリクスパターンに対応して露出してなる該基板表面を第1の領域となし、該マトリクスパターンを第2の領域となすことを特徴とする反応場アレーの製造方法。
IPC (5件)：
C12Q 1/68
, C12M 1/00
, C12N 15/09
, G01N 33/15
, G01N 33/543 521
C12Q 1/68 A
, C12M 1/00 A
, G01N 33/15 Z
, G01N 33/543 521
, C12N 15/00 A
