特許

J-GLOBAL ID：200903056554585788

プラズマ処理装置

発明者： 高橋 清 ,  浜野 勝艶
出願人/特許権者： 国際電気株式会社
代理人 (1件)： 三好 祥二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-202840
公開番号（公開出願番号）：特開平8-050998
出願日： 1994年08月04日
公開日（公表日）： 1996年02月20日
要約：

【要約】【目的】誘導結合方式のプラズマ処理装置に於いて均一な高密度プラズマを得る。【構成】被処理物6に対向配置された平板コイルユニット13に高周波電力を印加してプラズマを生成し、該プラズマを利用して前記被処理物を処理するプラズマ処理装置に於いて、前記平板コイルユニットを複数のコイル14,15,16,17で構成し、或は更に複数のコイルそれぞれに電流調整手段18を接続し、或は更に複数のコイルを高周波電源に対して並列接続したものであり、平板コイルユニットを複数のコイルで構成することでインピーダンスを大きくすることなく磁束密度を高めることができ、更に磁束密度分布の均一化が図れ、更に各コイルそれぞれに流れる電流調整が可能となり、各コイル毎の磁束発生状態の調整が可能で均一な高密度プラズマを容易に得ることができる。

請求項（抜粋）：

被処理物に対向配置された平板コイルユニットに高周波電力を印加してプラズマを生成し、該プラズマを利用して前記被処理物を処理するプラズマ処理装置に於いて、前記平板コイルユニットを複数のコイルで構成したことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (4件)：

H05H 1/46 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31

FI (2件)：

H01L 21/302 C ,  H01L 21/302 B

引用特許：

審査官引用 (3件)

• プラズマ発生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-352598   出願人：国際電気株式会社
• 特開昭57-007100
  
• 特開平2-235332