特許
J-GLOBAL ID:200903056573070306
照射装置用ターゲット、および照射装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鈴江 武彦 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-017243
公開番号(公開出願番号):特開2002-221600
出願日: 2001年01月25日
公開日(公表日): 2002年08月09日
要約:
【要約】【課題】ターゲット部内の鉛ビスマスの凝固を阻止する。【解決手段】鉛ビスマス(PbBi)に放射線を照射する照射装置に用いられ、鉛ビスマスをその内部に導入してターゲットを形成する照射装置用ターゲット7であって、その外周を、鉛ビスマスを加熱するためのHeガスを導入するHeガス導入路32を備えた加熱ジャケット30で覆い、Heガス導入路32にHeガスを供給する。
請求項(抜粋):
ターゲットである液体金属に放射線を照射する照射装置に用いられ、前記液体金属をその内部に導入して前記ターゲットを形成する照射装置用ターゲットであって、前記内部に導入した液体金属を加熱する加熱手段を備えたことを特徴とする照射装置用ターゲット。
IPC (6件):
G21K 5/08
, G01M 3/40
, G21F 9/00
, G21G 1/06
, G21K 5/02
, H05H 3/06
FI (6件):
G21K 5/08 N
, G01M 3/40 G
, G21F 9/00 N
, G21G 1/06
, G21K 5/02 N
, H05H 3/06
Fターム (6件):
2G067AA01
, 2G067CC05
, 2G067DD22
, 2G067DD23
, 2G085BE10
, 2G085EA10
引用特許:
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