特許
J-GLOBAL ID：200903056587443407
ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-211028
公開番号（公開出願番号）：特開2008-039917
出願日： 2006年08月02日
公開日（公表日）： 2008年02月21日
要約：
【課題】マスク再現性の良好なポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】樹脂成分(A)と酸発生剤成分(B)とを含有し、(A)成分は、一般式(a0)の構成単位(a0)と、第3級アルキルエステル型の酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)とを有する共重合体(A1)と、前記構成単位(a1)と同様の構成単位(a1’)と、前記構成単位(a0)又は極性基含有脂肪族炭化水素基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a3)とを有する共重合体(A2)とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。[化1][式中、Rは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基又はハロゲン化低級アルキル基;Y1は脂肪族環式基;Zは第3級アルキル基含有基又はアルコキシアルキル基;aは1〜3、bは0〜2の整数、a+b=1〜3;c、d、eは各々独立して0〜3の整数。]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含有するポジ型レジスト組成物であって、
前記樹脂成分(A)は、下記一般式(a0)で表される構成単位(a0)と、第3級アルキルエステル型の酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)とを有する共重合体(A1)と、
第3級アルキルエステル型の酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位であり、且つ前記構成単位(a1)とは異なる構成単位(a1’)と、下記一般式(a0)で表される構成単位(a0)または極性基含有脂肪族炭化水素基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a3)とを有する共重合体(A2)とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039
, H01L 21/027
, G03F 7/004
G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
, G03F7/004 501
2H025AA04
, 2H025AB16
, 2H025AB17
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BF02
, 2H025BG00
, 2H025CC20
, 2H025FA12
