特許

J-GLOBAL ID：200903056625439559

静電チャック及び半導体製造装置

発明者： 蜂 谷 潤
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 山本 敬敏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-344978
公開番号（公開出願番号）：特開2003-152063
出願日： 2001年11月09日
公開日（公表日）： 2003年05月23日
要約：

【要約】【課題】ジョンソンラーベック力を利用した静電チャックにおいて、マイクロアーキング等の発生を防止する。【解決手段】内部に電極板32が埋設された半導電性のセラミックからなるペデスタル31と、ペデスタル31の外周に隣接して配置された半導電性又は導電性のインサートリング33とを備えた静電チャック30において、ペデスタル31とインサートリング33との接合界面に絶縁膜34を設ける。これにより、接合界面に間隙があっても、ペデスタル31とインサートリング33との間におけるマイクロアーキングが阻止され、チッピング、それに伴なうパーティクルの発生が防止される。

請求項（抜粋）：

被保持体の保持面を形成すると共に内部に電極が埋設された半導電性のセラミックからなる保持部材と、前記被保持体の外縁領域を保持する保持面を形成すると共に前記保持部材の周りに隣接して配置された半導電性又は導電性の環状部材と、を備えた静電チャックであって、前記保持部材と前記環状部材との間に、絶縁体を設けた、ことを特徴とする静電チャック。

IPC (2件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/3065

FI (2件)：

H01L 21/68 R ,  H01L 21/302 C

Fターム (19件)：

5F004BA04 ,  5F004BB13 ,  5F004BB22 ,  5F004BB23 ,  5F004BB29 ,  5F004BB30 ,  5F004DA01 ,  5F004DA16 ,  5F004DA23 ,  5F004DA26 ,  5F031CA02 ,  5F031HA02 ,  5F031HA07 ,  5F031HA10 ,  5F031HA16 ,  5F031MA28 ,  5F031MA32 ,  5F031PA26 ,  5F031PA30

引用特許：

審査官引用 (1件)

• プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-317682   出願人：住友金属工業株式会社