特許
J-GLOBAL ID：200903012624114420

プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法

発明者：
森田 整尚

森田 整尚 について

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中西 敏雄

中西 敏雄 について

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田中 宏幸

田中 宏幸 について

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奥村 信夫

奥村 信夫 について


出願人/特許権者：
住友金属工業株式会社

住友金属工業株式会社 について


代理人 (1件)： 森 道雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-317682
公開番号（公開出願番号）：特開平9-306896
出願日： 1996年11月28日
公開日（公表日）： 1997年11月28日
要約：
【要約】【課題】ウエハ周縁部19bでの電界補正を向上させ、ウエハ中央部19aとウエハ周縁部19bとでエッチング形状差を生じさせないようにエッチングすることができるプラズマ処理装置およびプラズマ処理方法を提供する。【解決手段】第1電極11と、これに対向するウエハ19を載置する第2電極12とを備えたプラズマ処理装置10であって、第1電極11の第2電極12と対向する面の外周部に第2電極12側へ突出した導電性の第1環状部13が設けられ、第2電極12の外周部に導電性の第2環状部14が設けられているプラズマ処理装置。このプラズマ処理装置を用いて、第1環状部13の内径Din、外径Dout、電極面からの突出量Hout、ウエハ19のサイズDSiおよび電極間距離Lが所定の条件を満たすようにして、ウエハにプラズマ処理を施すプラズマ処理方法。
請求項（抜粋）：
第1電極と、これに対向するウエハを載置する第2電極とを備えたプラズマ処理装置であって、前記第1電極の前記第2電極と対向する面の外周部に前記第2電極側へ突出した導電性の第1環状部が設けられ、前記第2電極の外周部に導電性の第2環状部が設けられていることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/3065 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/68 ,  H05H 1/46
FI (4件)：
H01L 21/302 C ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/68 R ,  H05H 1/46 M
引用特許：
審査官引用 (4件)
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