特許
J-GLOBAL ID：200903056635663090
シリル化ポリメチルシルセスキオキサン、その製造方法、それを用いた組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-039390
公開番号（公開出願番号）：特開平10-237173
出願日： 1997年02月24日
公開日（公表日）： 1998年09月08日
要約：
【要約】【課題】 保存安定性、柔軟性、熱安定が良く、かつポリオルガノシロキサン等のポリマーとの架橋性等の機能性を有するポリメチルシルセスキオキサン、その製法、その組成物を提供する。【解決手段】 ポリスチレン換算分子量Mが380〜2000で、式:〔CH3SiO3/2 〕n 〔CH3 Si(OH)O2/2 〕m (m,nは上記分子量を与える正の数で、0.034(M×10-3)≦m/(m+n)≦0.152/(M×10-3)+0.10〕で示されるポリメチルシルセスキオキサンのシラノール基をケイ素原子に結合した水素原子を有するシリル基含有化合物でシリル化して得られ、残留シラノール基がSi原子あたり0.12以下のシリル化ポリメチルシルセスキオキサン。これとポリオルガノシロキサンとの組成物。
請求項（抜粋）：
ポリスチレン換算数平均分子量(Mn)が380から2000の範囲にあり、式〔CH3 SiO3/2 〕n 〔CH3 Si(OH)O2/2 〕m〔m,nは上記分子量を与える正の数で、m/(m+n)の値は図1のA領域にある。このA領域は、横軸が1/(Mn×10-3)、縦軸がm/(m+n)で表される図1のグラフにおいて、次の式1〜4で表される各直線によって囲まれる領域であり、各直線上も含み、また各直線の交点も含むものである。(式1):m/(m+n)=0.152/Mn×10-3)+0.10(式2):1/(Mn×10-3)=1000/2000(式3):1/(Mn×10-3)=1000/380(式4):m/(m+n)=0.034/(Mn×10-3)〕で示されるポリメチルシルセスキオキサンのシラノール基をシリル化して得られ、式〔CH3 SiO3/2 〕n 〔CH3 Si(OH)O2/2 〕m-k 〔CH3 Si(OSiR1 R2 R3 )O2/2 〕k〔上記式において、kはmより小さい正の数であり、(m-k)/(m+n)で表される残留シラノール基の量は0.12以下であり、R1 ,R2 及びR3 は水素原子又は置換もしくは非置換の1価の炭化水素基であり、そのうち1個以上が水素原子である〕で示されるシリル化ポリメチルシルセスキオキサン。
IPC (4件)：
C08G 77/14
, C08G 77/06
, C08L 83/05
, C08L 83/06
C08G 77/14
, C08G 77/06
, C08L 83/05
, C08L 83/06
