特許

J-GLOBAL ID：200903056676848607

真空プロセッサの圧力を制御する方法及び装置

発明者： カーヴェー ファーロ ,  バーンズ マイケル エス ,  リチャードソン ブレット シー ,  オルソン クリストファー エイチ
出願人/特許権者： ラム リサーチ コーポレイション
代理人 (1件)： 中村 稔 (外6名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-535433
公開番号（公開出願番号）：特表2000-507875
出願日： 1997年03月27日
公開日（公表日）： 2000年06月27日
要約：

【要約】ウェーハ処理装置の反応チャンバ(106)の圧力を制御するための方法及び装置が開示してある。開示した装置及び方法は、ガスを真空排気システム(130)の中に導入するためにバラスト口(150a、150b)を使用し、それにより反応チャンバ(106)内の圧力を制御する。開示した装置及び方法は、さらに、反応チャンバ(106)とターボポンプ(126)との間に配置された制御ゲート弁(124)の所望の位置を推定するために推定曲線を使用する。開示した装置及び方法は、さらに、反応チャンバ(106)内の圧力を高める場合に必要な遷移時間又は安定化時間を短縮するために、設定値レベルよりも多い流量で処理ガスを導入する。

請求項（抜粋）：

真空排気処理チャンバ内の圧力を所定の圧力レベルまで高める方法において 、 処理ガスを第1所定流量で処理チャンバの中に導入する段階と、 処理チャンバ内のガス圧力を測定する段階と、 導入された処理ガスの流量を、処理チャンバ内の測定ガス圧力に応じて、第 1所定流量よりも少ない第2所定流量まで減らす段階と を含むことを特徴とする方法。

IPC (5件)：

B01J 3/02 ,  F16K 31/12 ,  F16K 31/36 ,  G05D 16/20 ,  H01L 21/3065

FI (5件)：

B01J 3/02 K ,  F16K 31/12 ,  F16K 31/36 ,  G05D 16/20 A ,  H01L 21/302 B

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 高速圧力制御方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-070862   出願人：国際電気株式会社
• 特公平7-087893
  
• 特開昭63-058833