特許

J-GLOBAL ID：200903056765553688

真空吸着装置

発明者： 森岡 裕之
出願人/特許権者： 京セラ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-046786
公開番号（公開出願番号）：特開平10-242255
出願日： 1997年02月28日
公開日（公表日）： 1998年09月11日
要約：

【要約】【課題】パーティクルやコンタミネーションが少なく、高い平坦精度に保持することが可能な真空吸着装置を提供する。【解決手段】セラミック基台11の一主面に凹欠部12を有し、該凹欠部12の底面には複数の突起13を備えてなり、該突起13の頂面13aとセラミック基台11の一主面とを保持面14としてなる真空吸着装置10において、上記突起13を先細り状とするとともに、その頂面13aを点又はその面積を0.02mm2 以下とする。

請求項（抜粋）：

セラミック基台の一主面に凹欠部を有し、該凹欠部の底面には複数の突起を備えてなり、該突起の頂面とセラミック基台の一主面とは同一平面上にあって保持面をなし、上記凹欠部内を減圧することで、被吸着物を上記保持面で規定しながら吸着保持する真空吸着装置において、上記突起は先細り状で、かつその頂面が点又はその面積が0.02mm2 以下であることを特徴とする真空吸着装置。

IPC (2件)：

H01L 21/68 ,  B23Q 3/08

FI (2件)：

H01L 21/68 P ,  B23Q 3/08 A

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 保持装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-199801   出願人：株式会社ニコン
• 特開平1-129438
  
• 露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-286517   出願人：株式会社ニコン
• 特開平1-129438