特許

J-GLOBAL ID：200903056778635136

マーキング方法

発明者： 早川 博敏 ,  池田 満昭 ,  高波 修一 ,  後藤 忠彦
出願人/特許権者： 株式会社安川電機 ,  株式会社ワイ・イー・データ
代理人 (1件)： 若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-037695
公開番号（公開出願番号）：特開平10-230377
出願日： 1997年02月21日
公開日（公表日）： 1998年09月02日
要約：

【要約】【課題】 ガラス等の表面に微細で鮮明、消え難いマーキングをすること。【解決手段】 透明体又はレーザ光線透過体にマーキングを形成する方法において、マーキングを形成されるべき前記透明体又はレーザ光線透過体の面を所望の金属、合金、金属化合物、セラミックス若しくは有機化合物又は前記金属、合金、金属化合物、セラミックス若しくは有機化合物を少なくとも1以上含む複合物から成る板状体の面に接触させ、前記透明体又はレーザ光線透過体を通して前記板状体の面に文字、図形、記号等の所望のパターンでレーザ光を照射し、前記レーザ光に照射された前記板状体の近傍の前記透明体又はレーザ光線透過体の面に凹部を形成してマーキングすることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

透明体又はレーザ光線透過体にマーキングを形成する方法において、マーキングを形成されるべき前記透明体又はレーザ光線透過体の面を所望の金属、合金、金属化合物、セラミックス若しくは有機化合物又は前記金属、合金、金属化合物、セラミックス若しくは有機化合物を少なくとも1以上含む複合物から成る板状体の面に接触させ、前記透明体又はレーザ光線透過体を通して前記板状体の面に文字、図形、記号等の所望のパターンでレーザ光を照射し、前記レーザ光に照射された前記板状体の近傍の前記透明体又はレーザ光線透過体の面に凹部を形成してマーキングすることを特徴とするマーキング方法。

IPC (2件)：

B23K 26/00 ,  B41M 5/26

FI (2件)：

B23K 26/00 B ,  B41M 5/26 S

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 透過性基体へのレーザーマーキング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-229535   出願人：並木精密宝石株式会社
• パターンを有する表面け書きを透明本体上に形成する方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平10-514423   出願人：フィリップスエレクトロニクスネムローゼフェンノートシャップ

引用文献：

審査官引用 (1件)

• 化学大事典7, 19791110, 縮刷版第23刷, P.889-891