光学部材及びその洗浄方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小栗昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-162369
公開番号（公開出願番号）：特開2001-342041
出願日： 2000年05月31日
公開日（公表日）： 2001年12月11日
要約：

【要約】【課題】合成石英ガラス製光学部材を従来に比べて格段に清浄にし得る洗浄方法、並びに清浄度の極めて高い合成石英ガラス製光学部材を提供する。【解決手段】合成石英ガラスからなる光学部材を、酸化セリウム系研磨剤を用いて研磨した後、加熱した、硫酸を主成分とする水溶液を用いて洗浄する。

請求項（抜粋）：

合成石英ガラスからなる光学部材を、酸化セリウム系研磨剤を用いて研磨した後、加熱した、硫酸を主成分とする水溶液を用いて洗浄することを特徴とする洗浄方法。

IPC (9件)：

C03C 23/00 , B08B 3/08 , B08B 3/10 , C03C 15/00 , C03C 19/00 , C11D 7/08 , C11D 7/18 , C11D 7/20 , G02B 1/00

FI (9件)：

C03C 23/00 A , B08B 3/08 Z , B08B 3/10 Z , C03C 15/00 B , C03C 19/00 Z , C11D 7/08 , C11D 7/18 , C11D 7/20 , G02B 1/00

Fターム (22件)：

3B201AA01 , 3B201AB01 , 3B201BB05 , 3B201BB82 , 3B201BB92 , 3B201BB93 , 3B201BB96 , 3B201CC01 , 3B201CC11 , 3B201CC21 , 4G059AA11 , 4G059AB03 , 4G059BB04 , 4G059BB12 , 4H003DA15 , 4H003DA16 , 4H003EA03 , 4H003EA20 , 4H003EA25 , 4H003ED02 , 4H003EE04 , 4H003FA05

引用特許：

審査官引用 (5件)

薄膜トランジスター用合成石英ウエーハ
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-263374 出願人：信越化学工業株式会社
透明ガラス基板の処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-023677 出願人：日本電気硝子株式会社, 森田化学工業株式会社
ガラス基板の洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-030701 出願人：富士通株式会社

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