特許

J-GLOBAL ID：200903056826191482

粒子分析装置および粒子分析方法

発明者： 長谷川 一英
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (2件)： 柳田 征史 ,  佐久間 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-208808
公開番号（公開出願番号）：特開2009-258071
出願日： 2008年08月14日
公開日（公表日）： 2009年11月05日
要約：

【課題】粒子分析装置において、被検粒子へのダメージを極力抑制しつつ、被検粒子の内部構造に基づく分析を可能にする。【解決手段】粒子分析装置100は、励起光を発生する光源部1と、励起光を被検粒子である細胞8を含む試料液71の流れに照射する照射光学系2と、励起光が照射されることにより細胞8から生じる非線形ラマン散乱光を検出する検出部4と、検出部4からの信号を処理して細胞8を分析する分析部5とを備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

励起光を発生する光源部と、 前記励起光を被検粒子を含む試料液の流れに照射する照射光学系と、 前記励起光が照射されることにより前記被検粒子から生じる非線形ラマン散乱光を検出する検出部と、 該検出部からの信号を処理して前記被検粒子を分析する分析部とを備えたことを特徴とする粒子分析装置。

IPC (2件)：

G01N 15/14 ,  G01N 21/65

FI (2件)：

G01N15/14 P ,  G01N21/65

Fターム (21件)：

2G043AA01 ,  2G043BA16 ,  2G043CA04 ,  2G043EA04 ,  2G043FA06 ,  2G043GA06 ,  2G043GB21 ,  2G043HA01 ,  2G043HA02 ,  2G043HA09 ,  2G043HA15 ,  2G043JA03 ,  2G043JA04 ,  2G043JA05 ,  2G043KA01 ,  2G043KA02 ,  2G043KA08 ,  2G043KA09 ,  2G043LA01 ,  2G043LA02 ,  2G043MA01

引用特許：

出願人引用 (1件)

• フロー蛍光法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-226683   出願人：ソイニ,エルッキ