特許
J-GLOBAL ID：200903056859790721

高分子電解質形成用モノマー含有液の再生方法

発明者：
大籏 英樹

大籏 英樹 について

, 
門田 隆二

門田 隆二 について

, 
坂井 厚

坂井 厚 について


出願人/特許権者：
昭和電工株式会社

昭和電工株式会社 について


代理人 (1件)： 大家 邦久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-051614
公開番号（公開出願番号）：特開2001-244151
出願日： 2000年02月28日
公開日（公表日）： 2001年09月07日
要約：
【要約】【課題】 導電性重合体の原料モノマー含有液に混入する酸化剤、モノマー溶液中に生成するオリゴマー等の低分子量重合体や重合体などの不純物等を除去し再利用できるモノマー溶液の再生方法を提供する。【解決手段】 弁作用金属基板上に形成された誘電体皮膜上に、有機高分子固体電解質層、導電性カーボン層及び金属粉末含有導電体層を形成してなる固体電解コンデンサの製造方法において、前記誘電体皮膜を有する弁作用金属基板を有機高分子のモノマー溶液及び酸化剤溶液中に交互に浸漬する操作を繰り返して有機高分子固体電解質層を形成するために用いられる有機高分子のモノマー溶液を、吸着能を有する多孔質体を用いて精製することを特徴とする有機高分子固体電解質形成用モノマー溶液の再生方法、及び再生されたモノマー含有液を使用する固体電解コンデンサの製造方法。
請求項（抜粋）：
弁作用金属基板上に形成された誘電体皮膜上に、有機高分子固体電解質層、導電性カーボン層及び金属粉末含有導電体層を形成してなる固体電解コンデンサの製造方法において、前記誘電体皮膜を有する弁作用金属基板を有機高分子のモノマー含有液及び酸化剤含有液中に交互に浸漬する操作を繰り返して有機高分子固体電解質層を形成するために用いられる有機高分子のモノマー含有液を、吸着能を有する多孔質体を用いて精製することを特徴とする有機高分子固体電解質形成用モノマー含有液の再生方法。
IPC (12件)：
H01G 9/028 ,  B01D 15/00 ,  B01D 61/14 500 ,  B01J 20/04 ,  B01J 20/08 ,  B01J 20/10 ,  B01J 20/12 ,  B01J 20/18 ,  B01J 20/20 ,  B01J 20/22 ,  B01J 20/26 ,  H01M 10/40
FI (14件)：
B01D 15/00 K ,  B01D 15/00 L ,  B01D 61/14 500 ,  B01J 20/04 A ,  B01J 20/08 A ,  B01J 20/10 A ,  B01J 20/12 A ,  B01J 20/18 B ,  B01J 20/20 B ,  B01J 20/22 B ,  B01J 20/26 B ,  H01M 10/40 B ,  H01G 9/02 331 H ,  H01G 9/02 331 G
Fターム (42件)：
4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006KB12 ,  4D006KB14 ,  4D006MC18 ,  4D006MC24 ,  4D006MC29 ,  4D006MC33 ,  4D006MC54 ,  4D006MC63 ,  4D006MC74 ,  4D006PB13 ,  4D006PB27 ,  4D006PB28 ,  4D006PB68 ,  4D006PB70 ,  4D006PC01 ,  4D017AA03 ,  4D017BA04 ,  4D017CA02 ,  4D017CA05 ,  4D017CA13 ,  4D017CB01 ,  4D017CB03 ,  4D017DA01 ,  4D017EA01 ,  4G066AA04B ,  4G066AA16B ,  4G066AA20B ,  4G066AA22B ,  4G066AA61B ,  4G066AA64B ,  4G066CA01 ,  4G066CA21 ,  4G066CA25 ,  4G066CA27 ,  4G066DA10 ,  4G066EA20 ,  5H029AM16 ,  5H029CJ28 ,  5H029DJ09 ,  5H029EJ12
引用特許：
審査官引用 (2件)

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