特許

J-GLOBAL ID：200903056870743778

ニトロキシドの製造方法

発明者： ジレ,ジャン-フィリップ ,  ゲレ,オリヴィエ ,  ラスコンブ,ジャン-ピエール
出願人/特許権者： アトフィナ
代理人 (1件)： 越場 隆
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-592259
公開番号（公開出願番号）：特表2002-534409
出願日： 1999年12月22日
公開日（公表日）： 2002年10月15日
要約：

【要約】【課題】 ニトロキシドの製造方法の改良。【解決手段】 二相媒体中で脂肪族過酸を用いて立体障害を有する第二アミンまたは窒素原子のαに-CHを有する第二アミンを酸化させる。

請求項（抜粋）：

下記a)〜c)の段階を実施することを特徴とする、対応する第二アミンから第二アミンN-オキシドラジカル(ニトロキシドラジカル)を製造する方法:a) 第二アミンを水に不混和性の有機溶媒を用いて溶解した後、水を添加し、b) 得られた二相媒体の水性相中に、過酸/第二アミンのモル比が約1.5〜2.5となる量の脂肪族過酸と、pHを4〜12の範囲にするのに十分な量の塩基性水溶液とを激しく撹拌しながら同時に添加して第二アミンを完全に変換させ、c) 沈降分離によって有機相を回収し、有機溶媒を減圧蒸発させてニトロキシドを単離する。

IPC (4件)：

C07C291/04 ,  C07D211/94 ,  C07F 9/40 ,  C08G 73/02

FI (4件)：

C07C291/04 ,  C07D211/94 ,  C07F 9/40 C ,  C08G 73/02

Fターム (29件)：

4C054AA02 ,  4C054BB03 ,  4C054CC07 ,  4C054DD04 ,  4C054EE01 ,  4C054FF01 ,  4C054FF25 ,  4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AB51 ,  4H006AC59 ,  4H006BA02 ,  4H006BA06 ,  4H006BA32 ,  4H006BB46 ,  4H050AA02 ,  4H050AB40 ,  4H050AC50 ,  4H050AD16 ,  4J043PA04 ,  4J043PC166 ,  4J043RA01 ,  4J043SA32 ,  4J043SB01 ,  4J043SB03 ,  4J043UA391 ,  4J043YB03 ,  4J043YB17 ,  4J043YB28

引用特許：

出願人引用 (2件)

• N-オキシル化合物の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-061185   出願人：旭電化工業株式会社
• 特開昭60-094960
  

審査官引用 (3件)

• N-オキシル化合物の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-061185   出願人：旭電化工業株式会社
• 特開昭60-094960
  
• 特開昭60-094960