特許

J-GLOBAL ID：200903056900245417

ヒドロキシラジカルの製造方法

発明者： 北野 滋 ,  長沖 未来子 ,  清水 宣明 ,  中村 静夫
出願人/特許権者： 明和工業株式会社
代理人 (1件)： 武田 正彦 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-069369
公開番号（公開出願番号）：特開2003-026406
出願日： 2002年03月13日
公開日（公表日）： 2003年01月29日
要約：

【要約】【課題】 二酸化チタン触媒等の酸化物半導体触媒の存在下に、水中で、簡単にヒドロキシラジカルを生成させるヒドロキシラジカルの製造方法を提供する。【解決手段】 酸化物半導体粒子の存在する水中に超音波を照射することを特徴とするヒドロキシラジカルの製造方法にあり、強力な酸化力、殺菌力を有するヒドロキシラジカルを含有する水を簡単に提供することができ、また、被酸化物質及び酸化物半導体粒子の存在する水中に超音波を照射することにより、被酸化物質を酸化して分解叉は変質させて無害化することができる。

請求項（抜粋）：

流体中で、超音波の照射下に、酸化物半導体粒子と水を接触させることを特徴とするヒドロキシラジカルの製造方法。

IPC (9件)：

C01B 13/02 ,  B01J 21/06 ,  B01J 35/02 ,  C02F 1/36 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 550 ,  C02F 1/50 560 ,  C02F 1/72

FI (9件)：

C01B 13/02 Z ,  B01J 21/06 M ,  B01J 35/02 J ,  C02F 1/36 ,  C02F 1/50 531 J ,  C02F 1/50 540 B ,  C02F 1/50 550 D ,  C02F 1/50 560 C ,  C02F 1/72 Z

Fターム (35件)：

4D037AA05 ,  4D037AA11 ,  4D037AB01 ,  4D037AB03 ,  4D037AB14 ,  4D037BA26 ,  4D050AA01 ,  4D050AA12 ,  4D050AB16 ,  4D050BC06 ,  4D050BC09 ,  4G042BA44 ,  4G042BB04 ,  4G042BC06 ,  4G069AA02 ,  4G069AA03 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069BB04A ,  4G069BC22A ,  4G069BC35A ,  4G069BC56A ,  4G069BC58A ,  4G069BC59A ,  4G069BC66A ,  4G069BC68A ,  4G069CA05 ,  4G069CA07 ,  4G069CA10 ,  4G069CC40 ,  4G069EA02X ,  4G069EA02Y ,  4G069EC22X ,  4G069EC22Y

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 気泡収縮を利用した液体処理方法および処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-015821   出願人：株式会社荏原製作所
• 超音波処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-213542   出願人：東陶機器株式会社
• 化学物質の分解法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-109699   出願人：バブコック日立株式会社